Systeme und Verfahren zum Tempern durch Mikrowellenstrahlung

摘要

Systeme und Verfahren zum Tempern einer Halbleiterstruktur unter Verwendung von Mikrowellenstrahlung werden bereitgestellt. Eine Halbleiterstruktur wird bereitgestellt. Ein oder mehrere Energie umwandelnde Materialien, die in der Lage sind, die Absorption von Mikrowellenstrahlung durch die Halbleiterstruktur zu erhöhen, werden bereitgestellt. Mikrowellenstrahlung wird auf die Energie umwandelnden Materialien und die Halbleiterstruktur beaufschlagt, um die Halbleiterstruktur zum Herstellen von Halbleiterbauelementen zu tempern. Erste lokale Temperaturen, die mit einer oder mehreren ersten Zonen der Halbleiterstruktur verbunden sind, werden detektiert. Die Mikrowellenstrahlung, die auf die Energie umwandelnden Materialien und die Halbleiterstruktur beaufschlagt wird, wird basierend auf wenigstens teilweise den detektierten ersten lokalen Temperaturen eingestellt.