磁传感装置的制备方法

摘要

本发明揭示了一种磁传感装置的制备方法，包括：步骤S1、晶圆片上沉积第一绝缘介质层；步骤S2、在第一绝缘介质层上沉积磁性材料，形成磁性材料层；步骤S3、在磁性材料层上沉积缓冲层；步骤S4、沉积第二绝缘介质层，材料为非导电材料，使得缓冲层位于磁性材料层与第二绝缘介质层中间；步骤S5、通过光刻与刻蚀工艺将第二绝缘介质层打开，并且停在缓冲层上，或者停在磁性材料层上；步骤S6、接着去除光刻胶；步骤S7、通过刻蚀工艺将磁性材料层打开。本发明提出的磁传感装置的制备方法，在磁性材料之后沉积的第二绝缘介质层为非导电材料，使得这样的材料在稍后的刻蚀工艺当中不会产生过多的副产物，从而提高制得的磁传感装置的精度及灵敏度。

主权项

一种磁传感装置的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：步骤S1、在基底上沉积第一绝缘介质层，第一绝缘介质层材料为一层或者多层；步骤S2、在第一绝缘介质层上沉积磁性材料，形成磁性材料层；步骤S3、在磁性材料层上沉积一层或者多层缓冲层；步骤S4、沉积第二绝缘介质层，第二绝缘介质层为单层或者多层；步骤S5、通过光刻与刻蚀工艺将第二绝缘介质层打开，并且停在缓冲层上，或者停在磁性材料层上；步骤S6、接着去除光刻胶；步骤S7、通过刻蚀工艺将磁性材料层打开。