发明名称 两次扫描
摘要 本发明提出一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法,其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束,该方法包括:提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射;栅格化所述图案数据,所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据;将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器;和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断;其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整,以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。
申请公布号 CN104795303A 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201510083714.8 申请日期 2010.05.19
申请人 迈普尔平版印刷IP有限公司 发明人 T.范德皮尤特;M.J-J.维兰德
分类号 H01J37/317(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y10/00(2011.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 H01J37/317(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 高巍
主权项 一种使用带电粒子光刻机器根据图案数据将晶片曝光的方法,其中该带电粒子光刻机器生成用于将所述晶片曝光的多个带电粒子小束,该方法包括:提供所述图案数据作为向量格式的剂量映射;栅格化所述图案数据,所述栅格化包括渲染向量剂量映射以生成多级灰度数据和将所述多级灰度图案数据递色以生成两级黑/白数据;将所述两级黑/白图案数据供应给所述带电粒子光刻机器;和基于所述两级黑/白数据将所述带电粒子光刻机器生成的小束接通或切断;其中所述方法包括对所述向量剂量映射和/或所述多级灰度数据和/或所述两级黑/白数据作出修正调整,以修正小束位置、尺寸、电流或其他特性的变化。
地址 荷兰代夫特