| 发明名称 | X射线处理装置及X射线处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明的课题在于抑制X射线的泄漏。本发明的X射线处理装置包括：工作台，其载置被处理体；X射线处理机构，其对配置在工作台上的规定处理区域内的被处理体照射X射线并进行处理；按压部件（157），其配置在被处理体向处理区域搬送的搬送路径（11b）上，且按压残留在被处理体（101）的边部的耳部而将其压扁；及X射线遮蔽片材（158a）～（158c），其配置在比按压部件更靠X射线处理区域侧，且遮蔽来自X射线处理机构的X射线。 | ||
| 申请公布号 | CN103182721B | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201210572461.7 | 申请日期 | 2012.12.25 |
| 申请人 | 精工精密有限公司 | 发明人 | 盐泽育夫;齐藤努;东海林健;米田幸司 |
| 分类号 | B26D7/00(2006.01)I;B26F1/16(2006.01)I | 主分类号 | B26D7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人 | 杨暄 |
| 主权项 | 一种X射线处理装置，其特征在于包括：工作台(11)，其载置被处理体(101)；X射线处理机构(12R、12L)，其对配置在所述工作台(11)上的规定处理区域(11a)内的所述被处理体(101)照射X射线并进行处理；按压机构(157)，其配置在所述被处理体(101)向所述处理区域(11a)搬送的搬送路径(11b)上，且按压残留在所述被处理体(101)的边部上的耳部(102)而将其压扁；及遮蔽机构(158a～158c)，其配置在比所述按压机构(157)更靠所述处理区域(11a)侧，且遮蔽来自所述X射线处理机构(12R、12L)的X射线。 | ||
| 地址 | 日本国千叶县习志野市 | ||