LINEAR BATCH CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM

摘要

증착 챔버, 하나 이상의 기판 캐리어, 가스 인젝터 및 가열 시스템을 포함하는 선형 회분식 CVD 시스템이 설명되었다. 각 기판 캐리어는 증착 챔버에 위치되고 기판을 수용하기 위해 구성된 적어도 하나의 용기를 갖는다. 기판 캐리어들은 선형 구성의 기판들을 유지하기 위해 구성된다. 각 가스 인젝터는 하나 이상의 기판들에 대해 균일한 분포로 가스를 공급하도록 구성된 포트를 포함한다. 가열 시스템은 적어도 하나의 가열 소자와 기판의 온도를 균일하게 제어하기 위한 가열 제어 모듈을 포함한다. 시스템은 기판의 대용량 CVD 처리에 적합하다. 증착 챔버의 좁은 폭은 반응 챔버의 길이를 따라 기판에 대한 전구체 가스들의 균일한 분포를 가능하게 하고 통상적인 증착 챔버에 비해 더 많은 수의 기판이 처리되도록 한다.