| 发明名称 | 照射装置及照射方法 | ||
| 摘要 | 一种照射晶圆的方法及一种设置用于照射晶圆的装置。多个辐射发射器发出辐射。遮罩允许由所述多个辐射发射器发出的电磁辐射的一部分穿过，且阻挡所述电磁辐射的另一部分穿过。 | ||
| 申请公布号 | CN104797980A | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201380060282.8 | 申请日期 | 2013.09.20 |
| 申请人 | 英特斯特公司 | 发明人 | T·C·季米特里亚季斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王丽军 |
| 主权项 | 一种照射装置，所述装置包括：多个辐射发射器，由所述多个辐射发射器发出电磁辐射；以及遮罩，其允许来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的一部分穿过，且阻挡来自所述多个辐射发射器的所述电磁辐射的另一部分穿过。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||