一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜及其制作工艺

摘要

本发明公开了一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜及其制作工艺。制备过程包括如下步骤：（1）混合两种粒径的纳米二氧化硅醇溶液，粒径范围在10~500纳米；（2）配制含有硅氧键的改性有机硅结合剂，加入到步骤（1）得到的二氧化硅醇溶液后搅拌并加入固化剂，超声波振荡分散30分钟；（3）对薄膜基材表面进行表面改性处理；（4）将步骤（2）得到的涂布溶液涂覆在步骤（3）得到的薄膜表面；（5）步骤（3）得到的涂覆薄膜在真空烘箱中70°C固化1小时，得到所述的纳米二氧化硅抛光薄膜。该二氧化硅抛光薄膜磨粒分布均匀，抛光效率高，工件抛光质量好的特点。

主权项

一种采用改性有机硅结合剂的纳米二氧化硅抛光薄膜制作工艺，其特征在于，包括如下步骤：（1）将第二种纳米二氧化硅醇溶液缓慢添加到第一种纳米二氧化硅醇溶液中，每添加10~50克搅拌2~3分钟，全部混合后用超声波振荡仪振荡分散10~20分钟，第一种纳米二氧化硅醇溶液与第二种纳米二氧化硅醇溶液的质量比例为3~6:1；（2）配制含有硅氧键的改性有机硅结合剂加入到步骤（1）得到的二氧化硅醇溶液后搅拌10分钟并加入固化剂，超声波振荡分散30分钟，放在真空箱中真空去泡得到涂覆溶液，其中含有硅氧键的改性有机硅结合剂与二氧化硅醇溶液的质量比例为1:5~40；（3）对薄膜基材表面进行改性处理，薄膜基材厚度为5~10微米，表面改性处理包括电晕处理和预涂层处理，预涂层厚度为1~5微米；（4）将步骤（2）得到的涂覆溶液使用涂布机均匀地涂布在步骤（3）得到的薄膜表面，磨粒涂层的厚度为5~30微米；制备得到涂覆薄膜；（5）得到的涂覆薄膜在真空烘箱中70°C固化1小时，裁剪后得到纳米二氧化硅抛光薄膜。