| 发明名称 | 图案形成方法、电子元件的制造方法及电子元件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种图案形成方法，其包含：在基板上涂布溶剂(S)的步骤；在涂布有溶剂(S)的所述基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；及利用包含有机溶剂的显影液对进行了曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影而形成负型图案的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN104797982A | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201480003097.X | 申请日期 | 2014.04.24 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 吉留正洋;山中司 |
| 分类号 | G03F7/38(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/38(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 马爽;臧建明 |
| 主权项 | 一种图案形成方法，其包含：‑在基板上涂布溶剂(S)的步骤；‑在涂布有溶剂(S)的所述基板上涂布感光化射线性或感放射线性树脂组合物而形成感光化射线性或感放射线性膜的步骤；‑对所述感光化射线性或感放射线性膜进行曝光的步骤；及‑利用包含有机溶剂的显影液对进行了曝光的所述感光化射线性或感放射线性膜进行显影而形成负型图案的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||