发明名称 |
一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置 |
摘要 |
本发明实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置,涉及显示技术领域,可解决退火处理时金属表面易氧化的问题,提高产品良率。该制备方法包括在衬底基板上形成第一导电图案、第二导电图案以及至少覆盖第一导电图案的上表面的绝缘图案;第一导电图案、第二导电图案采用一次构图工艺形成;第一导电图案包括:第一非晶态透明导电图形、第一金属图形;第二导电图案包括第二非晶态透明导电图形;进行退火处理,使第一非晶态透明导电图形、第二非晶态透明导电图形分别转化为第一晶态透明导电图形、第二晶态透明导电图形。用于阵列基板及包括该阵列基板的显示面板的制备。 |
申请公布号 |
CN104795407A |
申请公布日期 |
2015.07.22 |
申请号 |
CN201510197982.2 |
申请日期 |
2015.04.23 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司 |
发明人 |
崔承镇 |
分类号 |
H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/12(2006.01)I |
代理机构 |
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 |
代理人 |
申健 |
主权项 |
一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:在衬底基板上形成第一导电图案、第二导电图案以及至少覆盖所述第一导电图案的上表面的绝缘图案;其中,所述第一导电图案、第二导电图案采用一次构图工艺形成;所述第一导电图案包括:依次远离所述衬底基板的第一非晶态透明导电图形、第一金属图形;所述第二导电图案包括第二非晶态透明导电图形;对形成有所述第一导电图案、所述第二导电图案以及所述绝缘图案的所述衬底基板进行退火处理,使所述第一非晶态透明导电图形、所述第二非晶态透明导电图形分别转化为第一晶态透明导电图形、第二晶态透明导电图形。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |