发明名称 一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
摘要 本发明实施例提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置,涉及显示技术领域,可解决退火处理时金属表面易氧化的问题,提高产品良率。该制备方法包括在衬底基板上形成第一导电图案、第二导电图案以及至少覆盖第一导电图案的上表面的绝缘图案;第一导电图案、第二导电图案采用一次构图工艺形成;第一导电图案包括:第一非晶态透明导电图形、第一金属图形;第二导电图案包括第二非晶态透明导电图形;进行退火处理,使第一非晶态透明导电图形、第二非晶态透明导电图形分别转化为第一晶态透明导电图形、第二晶态透明导电图形。用于阵列基板及包括该阵列基板的显示面板的制备。
申请公布号 CN104795407A 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201510197982.2 申请日期 2015.04.23
申请人 京东方科技集团股份有限公司 发明人 崔承镇
分类号 H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 H01L27/12(2006.01)I
代理机构 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人 申健
主权项 一种阵列基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:在衬底基板上形成第一导电图案、第二导电图案以及至少覆盖所述第一导电图案的上表面的绝缘图案;其中,所述第一导电图案、第二导电图案采用一次构图工艺形成;所述第一导电图案包括:依次远离所述衬底基板的第一非晶态透明导电图形、第一金属图形;所述第二导电图案包括第二非晶态透明导电图形;对形成有所述第一导电图案、所述第二导电图案以及所述绝缘图案的所述衬底基板进行退火处理,使所述第一非晶态透明导电图形、所述第二非晶态透明导电图形分别转化为第一晶态透明导电图形、第二晶态透明导电图形。
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