一种用于光刻设备的对准装置

摘要

一种对准装置及使用对准装置的光刻设备。对准装置包括光源、目标光栅、4F光学系统、设置于4F光学系统两个透镜之间频谱面的衍射级次选择部件、设置有对准标记的硅片、光电探测器以及对准信号处理模块，其中，从光源发出的光照明目标光栅后发生衍射，产生衍射光束，衍射光束照射至4F光学系统，其中的衍射级次选择部件选择衍射级次，使得衍射光束产生的干涉条纹周期与对准标记中光栅周期的大小相对应，各级次衍射光束经过4F光学系统后，相干成像于硅片上的相应对准标记上，经过硅片台带动硅片运动，实现干涉像与对准标记扫描，光电探测器对扫描得到的光信号进行探测，并经过对准信号处理模块根据对准信号进行对准位置的计算。

主权项

一种对准装置，包括光源、目标光栅、4F光学系统、设置于4F光学系统两个透镜之间频谱面的衍射级次选择部件、光电探测器以及对准信号处理模块，其中，从所述光源发出的光照明所述目标光栅后发生衍射，产生衍射光束，衍射光束照射至4F光学系统，其中的衍射级次选择部件选择衍射级次，使得衍射光束产生的干涉条纹周期与对准标记中光栅周期的大小相对应，各级次衍射光束经过所述4F光学系统后，相干成像于硅片上的相应对准标记上，经过硅片台带动所述硅片运动，实现干涉像与所述对准标记扫描，所述光电探测器对扫描得到的光信号进行探测，并经过所述对准信号处理模块根据对准信号进行对准位置的计算，其中，所述衍射级次选择部件为旋转光阑及电机的组合，在旋转光阑上设置相应于选取的衍射级次的滤波孔，电机调整所述旋转光阑的角度，使相应衍射级次的衍射光束通过4F光学系统的频谱面而干涉成像。