发明名称 METHOD OF TREATING A CHAMBER HAVING REFRACTORY WALLS
摘要 <p>본 발명은 내화벽 구비 챔버를 처리하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 처리 방법은 실리콘 유기화합물 및 탄화수소를 포함하는 상기 처리 조성물을, 산소 존재 시, 상기 챔버 내로 분사하는 것과, 상기 분사된 처리 조성물의 온도를 상승시키는 것을 포함하고 있으며, 산소 존재 하에서의 분사는 폐쇄 챔버 내에서 일어나며, 이 폐쇄 챔버 내에서 그 대부분이 액체상태로 된 처리 조성물이 입자 현탁액 형태로 분사되며, 또한 상기 방법은 폐쇄 챔버 내에서의 콜로이드성 실리카 에어로졸의 형성 및 챔버 내의 고압 실현과 함께 상기 실리콘 유기화합물을 분해하는 단계 및 상기 고압 실현 후 미소 균열 사이로의 상기 콜로이드성 실리카의 주입과 함께 상기 챔버의 내화벽 상에 상기 콜로이드성 실리카 층이 축적되는 단계를 포함한다.</p>
申请公布号 KR101538702(B1) 申请公布日期 2015.07.22
申请号 KR20107002731 申请日期 2008.07.03
申请人 发明人
分类号 C04B41/87;C10B29/06;F27D11/06 主分类号 C04B41/87
代理机构 代理人
主权项
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