发明名称 半导体装置
摘要 本发明的目的在于提供一种反馈电容小、且开关损耗低的半导体装置。本发明的半导体装置具备:半导体基板(20);漂移层(21),形成于半导体基板(20)表面上;第1阱区域(41),在漂移层(21)表面形成了多个;源极区域(80),是形成于各第1阱区域(41)表面的区域,将由该区域和漂移层(21)夹住的各第1阱区域(41)表面规定为沟道区域;栅电极(50),从沟道区域上到漂移层(21)上隔着栅极绝缘膜(30)形成;以及第2阱区域(43),在栅电极(50)下的漂移层(21)内部埋设,并且与相互相邻的各第1阱区域(41)的各个连接地形成。
申请公布号 CN102859696B 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201180020961.3 申请日期 2011.04.07
申请人 三菱电机株式会社 发明人 三浦成久;中田修平;大塚健一;渡边昭裕;渡边宽
分类号 H01L29/12(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 H01L29/12(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 李今子
主权项 一种半导体装置,具备:第1导电类型的半导体基板;第1导电类型的漂移层,形成于所述半导体基板表面上;第2导电类型的第1阱区域,在所述漂移层表面选择性地形成了多个;第1导电类型的源极区域,是在各所述第1阱区域表面选择性地形成的区域,将由该区域和所述漂移层夹住的各所述第1阱区域表面规定为沟道区域;栅电极,从所述沟道区域上到所述漂移层上,隔着绝缘膜而形成;多个第2导电类型的第2阱区域,在所述栅电极下的所述漂移层内部埋设,并且与相互相邻的各所述第1阱区域的各个连接地形成,俯视时连接多个所述第1阱区域之间的区域的一部分;源电极,与所述源极区域连接,并且仅与所述第1阱区域以及第2阱区域中的所述第1阱区域直接连接地形成;以及漏电极,形成于所述半导体基板背面,所述第2阱区域的第2导电类型的杂质浓度的最大值位于比所述漂移层的表面更深的位置。
地址 日本东京