发明名称 |
一种提高图形线宽量测精度对准的方法 |
摘要 |
本发明公开一种提高图形线宽量测精度对准的方法,其中:S1:在掩模板上设置具有数字或字母和接触孔的图形结构;S2:对所述掩模板进行曝光晶圆,在交界处形成对准图形;S3:建立自动量测程序,对所述对准图形进行精度对准;S4:自动量测晶圆所需的结构图形。使用本发明的一种提高图形线宽量测精度对准的方法,通过有接触孔和数字或字母的图形结构,能够有效地使SEM自动量测更容易对焦,大大提高了自动量测的效率。 |
申请公布号 |
CN102683238B |
申请公布日期 |
2015.07.22 |
申请号 |
CN201210136005.8 |
申请日期 |
2012.05.04 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
王剑;戴韫青 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种提高图形线宽量测精度对准的方法,其特征在于,S1:在掩模板上设置具有数字或字母和接触孔的图形结构,分割开光阻区和非光阻区的小线条图形;S2:对所述掩模板进行曝光晶圆,在交界处形成对准图形;S3:建立自动量测程序,对所述对准图形进行精度对准;S4:自动量测晶圆所需的结构图形;其中,所述对准图形为“十”字形,并通过交界形成四个部分;所述数字或字母和接触孔的图形结构位于对准图形交界形成的四个部分中,使SEM自动量测更容易对焦,提高自动量测的效率。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |