发明名称 一种提高图形线宽量测精度的对准方法
摘要 本发明公开一种提高图形线宽量测精度对准的方法,其中:S1:在掩模板上设置具有线条的图形结构;S2:对所述掩模板进行曝光晶圆,在交界处形成对准图形;S3:建立自动量测程序,对所述对准图形进行精度对准;S4:自动量测晶圆所需的结构图形。使用本发明的一种提高图形线宽量测精度对准的方法,通过有分隔线条和数字或字母的图形结构,能够有效地使SEM自动量测更容易对焦,大大提高了自动量测的效率。
申请公布号 CN102683253B 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201210135984.5 申请日期 2012.05.04
申请人 上海华力微电子有限公司 发明人 王剑;戴韫青
分类号 H01L21/68(2006.01)I 主分类号 H01L21/68(2006.01)I
代理机构 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人 王敏杰
主权项 一种提高图形线宽量测精度的对准方法,其特征在于,S1:在掩模板上设置具有线条的图形结构;S2:通过所述掩膜板对晶圆进行曝光,在不同曝光范围之间的交界处形成对准图形;S3:建立自动量测程序,对所述对准图形进行精确对准;S4:自动量测晶圆所需的结构图形;其中,所述对准图形为“十”字型,并且通过交界形成的四个部分具有数字或者字母线条图形。
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