一种用于光刻设备的近场对准装置和对准方法

摘要

一种对准装置，包括照明光源、工件台、探针阵列、传输光纤、光电探测器、对准信号处理模块、石英共振器、Z向控制器以及频率发生器和电流测量装置；从照明光源发出的光束从背面以大于临界角的角度照明置于工件台上的基准板或硅片上的对准标记，探针阵列将收集到的对准标记的近场信息以光强的方式耦合进传输光纤，传输光纤将光强信号传输给光电探测器，光电探测器将光强信号转换为电信号并进行放大，最后传输给对准信号处理模块进行信号处理和对准位置的计算；利用电流测量装置确定探针阵列和硅片表面的距离；利用频率发生器向石英共振器提供固定频率；利用石英共振器配合Z向控制器调整探针阵列和硅片表面的距离，使距离处于近场区域。

主权项

一种光刻设备的近场对准装置，包括照明光源、工件台、探针阵列、传输光纤、光电探测器、对准信号处理模块，从所述照明光源发出的光束，从所述工件台背面，以大于临界角的角度照射置于所述工件台上的基准板或硅片上的对准标记，所述探针阵列将收集到的信息以光强的方式耦合进所述传输光纤，所述传输光纤将光强信号传输给光电探测器，所述光电探测器将光强信号转换为电信号并进行放大，最后传输给对准信号处理模块进行信号处理和对准位置的计算；其特征在于：所述探针阵列收集到的信息为在所述对准标记正面形成的近场信息，所述近场信息为符合所述对准标记表面形貌分布的光强信息，所述对准装置还包括Z向控制单元，利用所述Z向控制单元调整探针阵列和硅片表面的距离，使所述距离处于近场区域。