显影方法、显影装置及具备该显影装置的涂敷显影处理系统

摘要

提供一种控制供给显影液时基板搬送速度和去除显影液时基板搬送速度，将抗蚀剂图案均一化的抗蚀剂显影装置。该显影装置具备：具有搬送在表面上具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板的第一搬送机构及向由该第一搬送机构搬送的基板的表面供给显影液的供给喷嘴的显影液供给部；具有搬送表面被显影液覆盖的基板的第二搬送机构的显影部；具有喷出气体将覆盖基板的表面的显影液吹走的吹气喷嘴及向该吹气喷嘴搬送基板的第三搬送机构的吹气部；具有向吹走了显影液的基板的表面供给冲洗液的冲洗液供给喷嘴的冲洗部；以由第一搬送机构搬送的基板的第一搬送速度和由第三搬送机构搬送的基板的第三搬送速度不同的方式，控制第一搬送机构及第三搬送机构的控制部。

主权项

一种光致抗蚀剂膜的显影方法，其特征在于，包括：一边将在表面具有被曝光后的光致抗蚀剂膜的基板以第一搬送速度进行搬送，一边向该表面供给显影液的工序；将表面被所述显影液覆盖的所述基板以第二搬送速度进行搬送的工序；将所述基板一边以与所述第一搬送速度不同的第三搬送速度进行搬送，一边将覆盖该基板的表面的显影液用气体吹走的工序；和接着所述吹走工序，一边将所述基板以所述第三搬送速度进行搬送，一边向所述表面供给冲洗液的工序，所述第一搬送速度和所述第三搬送速度比所述第二搬送速度快，且以与所述第一搬送速度和所述第三搬送速度不同的速度使在基板的后端的显影时间比除基板的后端之外的区域的显影时间短或长。