| 发明名称 | 用于向场景上投射结构化光图案的激光设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于向场景（15）上投射结构化光图案（9）的激光设备（10）。该设备由半导体激光器（2）的数个阵列（1）形成，每个阵列（1）包括半导体激光器（2）的发射区域（2a）的不规则分布。一个或者数个成像光学器件（4）将所述阵列（1）成像到成像空间，并且叠加成像空间中的所述阵列（1）的图像以形成所述光图案（9）。所提出的激光设备生成具有高对比度和效率的光图案，其可以用于3D成像系统（例如在汽车应用中）。 | ||
| 申请公布号 | CN104798271A | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201380062417.4 | 申请日期 | 2013.11.22 |
| 申请人 | 皇家飞利浦有限公司 | 发明人 | H.莫恩奇;S.格龙恩博尔恩;M.卡帕伊 |
| 分类号 | H01S5/42(2006.01)I;H01S5/00(2006.01)I;H01S5/183(2006.01)I;G01S17/93(2006.01)I;H04N5/235(2006.01)I | 主分类号 | H01S5/42(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 李静岚;景军平 |
| 主权项 | 一种用于向场景（15）上投射结构化光图案（9）的激光设备，所述设备由以下形成：‑ 半导体激光器（2）的数个阵列（1），每个阵列（1）包括半导体激光器（2）的发射区域（2a）的不规则分布，和‑ 一个或者数个成像光学器件（4），其将所述阵列（1）成像到成像空间，并且叠加在成像空间中的所述阵列（1）的图像以形成所述光图案（9）。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||