| 发明名称 | 层积膜 | ||
| 摘要 | 本发明目的在于提供一种使静电容量增大的层积膜。本发明提供的层积膜中第一电极层、树脂基材、第二电极层以及电介质层依次层积，其特征在于，所述电介质层含有偏氟乙烯/四氟乙烯共聚物(A)，所述共聚物(A)中，偏氟乙烯/四氟乙烯的比例为97/3～60/40。 | ||
| 申请公布号 | CN104798153A | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201380059514.8 | 申请日期 | 2013.11.14 |
| 申请人 | 大金工业株式会社 | 发明人 | 高明天;小松信之;硲武史;仲村尚子;横谷幸治;太田美晴;茂内普巳子;立道麻有子;木下雅量 |
| 分类号 | H01G4/18(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I | 主分类号 | H01G4/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 庞东成;褚瑶杨 |
| 主权项 | 一种层积膜，其是第一电极层、树脂基材、第二电极层以及电介质层依次层积的层积膜，其中，所述电介质层包含偏氟乙烯/四氟乙烯共聚物(A)，所述共聚物(A)中，偏氟乙烯/四氟乙烯的摩尔比为97/3～60/40。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||