发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 一种半导体装置及其制造方法,该半导体装置的制造方法包含下列步骤:使用暂时粘着层将载板贴合于晶圆的第一表面上;于晶圆相对第一表面的第二表面上形成布线层、阻隔层与导电结构,而形成半导体元件;从半导体元件的阻隔层切割至载板,使得半导体元件形成至少一子半导体元件;将紫外光照射于子半导体元件,使得暂时粘着层的粘性消失;以及移除子半导体元件的载板。本发明使得晶片上的影像感测元件不易于制程中被污染,且可降低无尘室设备与技术人员的成本。此外,本发明还可省略紫外光胶带的使用,降低制造成本。
申请公布号 CN104795319A 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201510025635.1 申请日期 2015.01.19
申请人 精材科技股份有限公司 发明人 李柏汉;张恕铭;刘沧宇;何彦仕;刘建宏
分类号 H01L21/301(2006.01)I;H01L21/78(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L21/301(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇
主权项 一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包含:a)使用一暂时粘着层将一载板贴合于一晶圆的一第一表面上;b)于该晶圆相对该第一表面的一第二表面上形成一布线层、一阻隔层与一导电结构,而形成一半导体元件;c)从该半导体元件的该阻隔层切割至该载板,使得该半导体元件形成至少一子半导体元件;d)将紫外光照射于该子半导体元件,使得该暂时粘着层的粘性消失;以及e)移除该子半导体元件的该载板。
地址 中国台湾桃园市中坜区中坜工业区吉林路23号9楼