发明名称 |
半导体装置及其制造方法 |
摘要 |
一种半导体装置及其制造方法,该半导体装置的制造方法包含下列步骤:使用暂时粘着层将载板贴合于晶圆的第一表面上;于晶圆相对第一表面的第二表面上形成布线层、阻隔层与导电结构,而形成半导体元件;从半导体元件的阻隔层切割至载板,使得半导体元件形成至少一子半导体元件;将紫外光照射于子半导体元件,使得暂时粘着层的粘性消失;以及移除子半导体元件的载板。本发明使得晶片上的影像感测元件不易于制程中被污染,且可降低无尘室设备与技术人员的成本。此外,本发明还可省略紫外光胶带的使用,降低制造成本。 |
申请公布号 |
CN104795319A |
申请公布日期 |
2015.07.22 |
申请号 |
CN201510025635.1 |
申请日期 |
2015.01.19 |
申请人 |
精材科技股份有限公司 |
发明人 |
李柏汉;张恕铭;刘沧宇;何彦仕;刘建宏 |
分类号 |
H01L21/301(2006.01)I;H01L21/78(2006.01)I;H01L27/146(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/301(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包含:a)使用一暂时粘着层将一载板贴合于一晶圆的一第一表面上;b)于该晶圆相对该第一表面的一第二表面上形成一布线层、一阻隔层与一导电结构,而形成一半导体元件;c)从该半导体元件的该阻隔层切割至该载板,使得该半导体元件形成至少一子半导体元件;d)将紫外光照射于该子半导体元件,使得该暂时粘着层的粘性消失;以及e)移除该子半导体元件的该载板。 |
地址 |
中国台湾桃园市中坜区中坜工业区吉林路23号9楼 |