| 发明名称 | 粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于获得使照射野和照射位置精度的组合等有关粒子射线照射的多个参数的组合可变，能够进行多种多样的不同照射方式的照射的粒子射线照射装置。所述粒子射线照射装置是将利用经加速器(54)加速的带电粒子束(3)照射到照射对象(11)的粒子射线照射装置(58)，包括：扫描电磁铁(1、2)，该扫描电磁铁(1、2)将带电粒子束(3)进行扫描；以及扫描电磁铁移动装置(4)，该扫描电磁铁移动装置(4)移动扫描电磁铁(1、2)以使带电粒子束(3)的射束轴向上的扫描电磁铁(1、2)与照射对象(11)之间的距离改变。 | ||
| 申请公布号 | CN103079641B | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201080068538.6 | 申请日期 | 2010.08.20 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 片寄雅 |
| 分类号 | G21K1/093(2006.01)I | 主分类号 | G21K1/093(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 李玲 |
| 主权项 | 一种粒子射线照射装置，该粒子射线照射装置将经加速器加速的带电粒子束照射到照射对象，其特征在于，包括：扫描电磁铁，所述扫描电磁铁在与射束轴垂直的X方向及Y方向上扫描所述带电粒子束；以及扫描电磁铁移动装置，所述扫描电磁铁移动装置移动所述扫描电磁铁，以使所述带电粒子束的射束轴向上的所述扫描电磁铁与所述照射对象之间的距离改变。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||