用于超声波清洗的方法和装置

摘要

本发明涉及通过将高传播超声波能量应用至一个表面从而清洗该表面的方法，所述方法包括将该表面的至少一部分浸入流体，其中所述流体与高传播超声波能量发射组件相接触；以及从所述组件朝所述流体发射高传播超声波能量，以在所述表面产生空穴作用，从而清洗所述表面。

主权项

一种通过将高传播超声波能量应用至一个表面从而清洗该表面的方法，该方法包括：将该表面的至少一部分浸入流体中，其中所述流体与包括至少一个超声探头的组件接触或处于接触中；以及从所述至少一个超声探头向所述流体发射高传播超声波能量，在所述表面处产生空穴作用，从而清洗所述表面；以及其中所述高传播超声波能量具有0.01至40微米之间的振幅，被以16‑30KHz的频率发射，被以0.0001瓦/cm³至100瓦/cm³之间的能量密度发射，被基本垂直于超声探头的轴向方向发射。