一种数控机床清洗剂

摘要

一种数控机床清洗剂,其由以下重量份数的原料制成：氢氧化钠4-5份,粉煤灰3-8份,三聚磷酸钠2.5-4份,马来酸酐8-24份,六偏磷酸钠12-18份,双蒸水30-40份,水杨酸盐4-8份,酸酐4-6份,无水硫酸钠4-9份,草酸钠4-6份,空心玻璃微珠7-12份,聚丙烯4-8份,磷酸二氢钙6-10份,二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5-10份,无卤阻烯剂3-7份。本发明的有益效果是：本发明的数控机床清洗剂，能够对机床的污渍进行有力的清除，操作方便简单，省时省力。

主权项

一种数控机床清洗剂, 其特征在于：其由以下重量份数的原料制成：氢氧化钠4‑5份, 粉煤灰3‑8份, 三聚磷酸钠2.5‑4份, 马来酸酐8‑24份, 六偏磷酸钠12‑18份, 双蒸水30‑40份, 水杨酸盐4‑8份, 酸酐4‑6份, 无水硫酸钠4‑9份, 草酸钠4‑6份, 空心玻璃微珠7‑12份, 聚丙烯4‑8份, 磷酸二氢钙6‑10份, 二甲基二巯基乙酸异辛酯锡5‑10份, 无卤阻烯剂3‑7份。