摘要 |
보통 노광(드라이 노광), 액침 노광, 2중 노광에 있어서 패턴 형상, 라인 엣지 러프니스가 양호한 감광성 조성물, 상기 감광성 조성물을 사용한 패턴형성방법, 및 상기 감광성 조성물에 사용되는 화합물을 제공한다. 하기 일반식(I)으로 표시되는 화합물에 대응하는 반복단위를 함유하고, 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 산기를 생성하는 수지(A)를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물. 일반식(I) 중, Z는 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 양이온이 이탈하여 산기가 되는 기를 나타낸다. A는 알킬렌기를 나타낸다. X는 단일결합 또는 헤테로원자를 갖는 2가의 연결기를 나타낸다. B는 단일결합, 산소원자 또는 -N(Rx)-를 나타낸다. Rx는 수소원자 또는 1가의 유기기를 나타낸다. R은 Y에 의해 치환된 1가의 유기기를 나타낸다. B가 -N(Rx)-를 나타낼 경우, R과 Rx는 결합해서 환을 형성해도 좋다. Y는 중합성기를 나타낸다. Z-A-X-B-R (I) |