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フォトレジストおよびその使用方法
摘要
New photoresists are provided that comprise preferably as distinct components: a resin, a photoactive component and a phenolic component Preferred photoresists of the invention are can be useful for ion implant lithography protocols.
申请公布号
JP5753681(B2)
申请公布日期
2015.07.22
申请号
JP20100279128
申请日期
2010.12.15
申请人
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC
发明人
ゲルハルト・ポーラース
分类号
G03F7/039;G03F7/40;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
主权项
地址
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