发明名称 衬底处理方法及其设备
摘要 本发明涉及衬底处理方法及其设备。按照根据所述本发明实施例的衬底处理方法,将超纯水供应到衬底的表面。将含氟代醇溶剂供应到已附着所述超纯水的所述衬底的所述表面。将具有在所述含氟代醇溶剂中的溶解性并与所述含氟代醇溶剂不同的第一溶剂供应到已附着所述含氟代醇溶剂的所述衬底的所述表面。将已附着所述第一溶剂的所述衬底引入到室中,用超临界流体替代所述衬底的所述表面上的所述第一溶剂,接着,减小所述室内的压力并且将所述超临界流体改变为气体。从所述室取出所述衬底。
申请公布号 CN104795343A 申请公布日期 2015.07.22
申请号 CN201410253690.1 申请日期 2014.06.09
申请人 株式会社 东芝 发明人 林秀和;佐藤洋平;大口寿史;富田宽
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 牛南辉;杨晓光
主权项 一种衬底处理方法,所述方法包括:将超纯水供应到衬底的表面;将含氟代醇溶剂供应到已附着所述超纯水的所述衬底的所述表面;将具有在所述含氟代醇溶剂中的溶解性并与所述含氟代醇溶剂不同的第一溶剂供应到已附着所述含氟代醇溶剂的所述衬底的所述表面;将已附着所述第一溶剂的所述衬底引入到室中,用超临界流体替代在所述衬底的所述表面上的所述第一溶剂,接着,通过减小所述室内的压力将所述超临界流体改变为气体;以及从所述室取出所述衬底。
地址 日本东京都