| 发明名称 | 经二羧酸酐修饰的聚酰亚胺前体、酰亚胺化而得的聚酰亚胺及使用其的液晶取向处理剂 | ||
| 摘要 | 本发明提供对各种有机溶剂的溶解性良好，特别是可获得摩擦耐受性良好、不易因背光源的照射而发生劣化的液晶取向膜的聚酰亚胺前体及/或聚酰亚胺。聚酰亚胺前体或将该聚酰亚胺前体酰亚胺化而得的聚酰亚胺的特征在于，末端氨基通过选自通式[1]和通式[2]的至少一种脂环式环氧二羧酸酐进行了修饰；式中，Y表示碳数1或2的亚烷基或者氧原子，R<sup>1</sup>表示氢原子或者以-X<sup>1</sup>-X<sup>2</sup>-X<sup>3</sup>表示的有机基团，式中的X<sup>1</sup>为单键或-CH<sub>2</sub>-，X<sup>2</sup>为单键或-O-，X<sup>3</sup>表示碳数1～20的烷基、碳数1～20的卤代烷基或者含氰基的碳数1～20的烷基。[化1]。<img file="DDA0000400472650000011.GIF" wi="1384" he="359" /> | ||
| 申请公布号 | CN103502311B | 申请公布日期 | 2015.07.22 |
| 申请号 | CN201280019927.9 | 申请日期 | 2012.04.27 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 铃木秀雄;野田尚宏 |
| 分类号 | C08G73/10(2006.01)I;C07D493/18(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | C08G73/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 胡烨 |
| 主权项 | 聚酰亚胺前体或将该聚酰亚胺前体酰亚胺化而得的聚酰亚胺，其特征在于，末端氨基通过式[1]表示的脂环式环氧二羧酸酐进行了修饰；<img file="FDA0000679794530000011.GIF" wi="972" he="393" />式中，R表示碳数1～20的烷基、碳数1～20的卤代烷基或者含氰基的碳数1～20的烷基。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||