发明名称 利用光阻模板遮罩的倍频方法
摘要
申请公布号 TWI493598 申请公布日期 2015.07.21
申请号 TW097140965 申请日期 2008.10.24
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 班却尔克里斯多夫丹尼斯;戴辉尚;苗理彦;陈豪
分类号 H01L21/027;G03F7/16;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于图案化一膜层的方法,包括:于一元件层上形成一光阻层;图案化该光阻层,以形成一光阻模板遮罩,该光阻模板遮罩包括一系列的线,每一条线具有侧壁与末端;于该光阻模板遮罩上沉积一间隙壁形成材料层;蚀刻该间隙壁形成材料层,以形成一间隙壁遮罩并暴露该光阻模板遮罩,该间隙壁遮罩具有间隙壁线,该间隙壁线邻接该光阻模板遮罩之该系列的线之每一条线之侧壁,以及具有间隙壁末端,该间隙壁末端缠绕在该光阻模板遮罩之该系列的线之每一条线之末端;裁切该间隙壁遮罩以形成一经过裁切的间隙壁遮罩,该裁切系藉由移除该间隙壁末端,但不移除该间隙壁线而达成;以及,接着,移除该光阻模板遮罩;以及转移该经过裁切的间隙壁遮罩的图案至该元件层。
地址 美国