发明名称 用于形成薄膜之沉积设备
摘要
申请公布号 TWI493062 申请公布日期 2015.07.21
申请号 TW101113253 申请日期 2012.04.13
申请人 SNU精密股份有限公司 发明人 赵晃新;宋基哲;郑胜哲;安佑正
分类号 C23C14/24 主分类号 C23C14/24
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于形成一薄膜的沉积设备,该设备包括:一源容器,待沉积于一基板上的一源材料以固态或液态容纳在该源容器中;一蒸发室,该蒸发室在该源容器上方耦接该源容器并与该源容器相通,且来自该源容器的一蒸发源材料穿过该蒸发室;一喷孔,该喷孔形成于该蒸发室的一顶部上且向上喷射穿过该蒸发室的该蒸发源材料;一第一加热器,该第一加热器提供于该蒸发室或该源容器内部的该源材料上方,且向该源材料供应热量以蒸发容纳于该源容器中的该源材料;一阻挡板,该阻挡板提供于该蒸发室内部的该第一加热器上方,且在该第一加热器向该源材料供应热量时,防止容纳于该源容器中的该源材料或外来杂质飞溅和附着到该喷孔;以及一传送单元,该传送单元用于在靠近该第一加热器或远离该第一加热器的方向上传送该源材料。
地址 南韩