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发明名称
一种蚀刻制程中保护膜组成物之使用方法
摘要
申请公布号
TWI492998
申请公布日期
2015.07.21
申请号
TW101144694
申请日期
2012.11.29
申请人
联致科技股份有限公司
发明人
陈佩瑄
分类号
C09D4/00;C09D5/08;C09D127/12;C03C15/00
主分类号
C09D4/00
代理机构
代理人
陈昭诚 台北市中正区杭州南路1段15之1号9楼
主权项
一种蚀刻制程中保护膜组成物之使用方法,系包括:于待进行蚀刻制程之物件表面以印刷方式分散保护膜组成物,其中,该保护膜组成物系包括紫外光固化树酯,系包含感光性寡聚物及反应性单体;氟化树脂,其中,相对于该紫外光固化树酯100重量份,该氟化树脂之含量为5至200重量份;以及光起始剂,其中,相对于该紫外光固化树酯100重量份,该光起始剂之含量系为0.1至20重量份;固化该保护膜组成物,以形成保护膜;以及使该物件进行该蚀刻制程。
地址
桃园市芦竹区南山路2段498之2号
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