发明名称 检查方法和装置、微影装置、微影制程单元及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI493296 申请公布日期 2015.07.21
申请号 TW098119578 申请日期 2009.06.11
申请人 ASML荷兰公司 发明人 福克斯 安迪亚司;凡 德 斯加 毛瑞斯
分类号 G03F7/23;G03F7/20 主分类号 G03F7/23
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于量测一基板之性质的装置,其包含:一辐射源,该辐射源经组态以将辐射引导至该基板之对应场之目标上,其中该等目标中之一第一者具有至少一第一光栅及一第二光栅,该第一光栅及该第二光栅具有各别预定偏移,该第一光栅之该预定偏移系在相反于该第二光栅之该预定偏移的一方向上;一侦测器,该侦测器经组态以侦测自该等目标中之该第一者所反射的该辐射,且自该经侦测辐射获得该等目标中之该第一者之一非对称性值;及一控制器,该控制器经组态以(i)基于至少该经获得非对称性值及该等预定偏移而判定该等目标中之该第一者之一叠对值,且(ii)针对该等目标之该经获得非对称性值与该经判定叠对值之间的一关系而判定跨越该等目标之一多项式拟合(polynomial fit)。
地址 荷兰