| 主权项 |
一种蚀刻特征部之临界尺寸(CD)的控制方法，该蚀刻特征部位于蚀刻层中，其中该蚀刻层配置在功能化有机遮罩层下方，该功能化有机遮罩层配置在中间遮罩层下方，该中间遮罩层配置在图案化光阻遮罩下方，其形成一堆叠，包含：中间遮罩层开口步骤，藉由相对于该图案化光阻遮罩而选择性蚀刻该中间遮罩层，将该中间遮罩层加以开口；功能化有机遮罩层开口步骤，将该功能化有机遮罩层加以开口，其中该功能化有机遮罩层为不包含无定形碳之聚合物，包含：通入含有COS之开口气体；形成电浆；中止通入该开口气体；及蚀刻步骤，蚀刻该蚀刻层。
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