| 摘要 |
1. Устройство для ионной имплантации, содержащее:,- корпус, соединенный с насосным устройством;- отрицательно поляризованный держатель подложки, размещенный в указанном корпусе; и- плазмоподающее устройство, выполненное в форме по существу цилиндрического тела, проходящего между начальным участком и конечным участком, при этом указанное устройство содержит главную камеру, снабженную ионизационной ячейкой;причем главная камера снабжена газоподводящим отверстием; аконечный участок главной камеры снабжен средствами уменьшения напора для создания перепада давления относительно указанного тела;отличающееся тем, чтоплазмоподающее устройство дополнительно содержит вспомогательную камеру, размещенную вне конечного участка, авспомогательная камера сообщается с корпусом на конечном участке.2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что вспомогательная камера снабжена второй ионизационной ячейкой.3. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что объем плазмоподающего устройства меньше, чем объем корпуса.4. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что конечный участок выполнен в виде перегородки с множеством отверстий.5. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что конечный участок содержит проем, площадь которого меньше площади любого другого участка указанного тела, размещенного между начальным участком и конечным участком.6. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что первая ионизационная ячейка содержит катушку возбуждения и удерживающую катушку.7. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что ось держателя подложки и ось плазмоподающего устройства являются отдельными осями.8. Устройство по п. 7, отличающееся � |
