Ein Arbeitsgerät und ein Verfahren zum Aufschmelzen werden bereitgestellt. In verschiedenen Ausführungsformen beinhaltet das Arbeitsgerät eine Kammereinheit, ein Waferanhebesystem, einen Erhitzer und eine Entlüftungseinheit. Das Waferanhebesystem ist in der Kammereinheit angeordnet. Der Erhitzer ist an die Kammereinheit gekoppelt und konfiguriert um den Wafer zu erhitzen. Die Entlüftungseinheit ist an die Kammereinheit gekoppelt, und konfiguriert um Gas in der Kammereinheit zu entlüften. Das Waferanhebesystem ist konfiguriert um den Wafer aufzunehmen und in der Kammereinheit zu bewegen, und um einen vertikalen Abstand zwischen dem Erhitzer und dem Wafer in der Kammereinheit bereitzustellen.
