发明名称 SUBSTRATE HANDLING APPARATUS AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
摘要 기판(928)을 핸들링하기 위한 기판 핸들링 장치(902)가 개시된다. 기판 핸들링 장치는 노광 영역(904)을 향해 기판을 공급하기 위한 기판 공급 장치(934), 노광 영역으로부터 기판을 수용하기 위한 기판 수용 장치(938), 및 적어도 노광 영역에서는 기판을 노광 높이 및/또는 경사에서 실질적으로 편평하게 유지시키기 위한 기판 안정화 장치(946) - 상기 기판 안정화 장치는 유연한 기판을 무접촉으로 안정화시키도록 구성됨 - 를 포함한다.
申请公布号 KR101537289(B1) 申请公布日期 2015.07.16
申请号 KR20127029649 申请日期 2011.03.14
申请人 发明人
分类号 B65G49/06;B65G51/03;G03F7/20;H01L21/683 主分类号 B65G49/06
代理机构 代理人
主权项
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