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经营范围
发明名称
碳化矽之结晶成长方法;METHOD FOR GROWING SILICON CARBIDE CRYSTAL
摘要
本发明为在藉由熔液法之碳化矽之结晶成长方法中,使用以SiC为主成分的坩埚来作为Si-C熔液之收容部。使金属元素M(M为选自由La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Lu所成的第一群、由Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu所成的第二群、由Al、Ga、Ge、Sn、Pb、Zn所成的第三群的至少1个群中的至少1种的金属元素)含有于前述Si-C熔液中,加热该坩埚,使以坩埚的主成分之SiC为来源的Si及C,从与Si-C熔液接触的坩埚表面的高温领域溶出至Si-C熔液内。藉此以抑制在与Si-C熔液接触的坩埚表面的SiC多晶之析出。
申请公布号
TW201527611
申请公布日期
2015.07.16
申请号
TW103142175
申请日期
2014.12.04
申请人
信越化学工业股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人
新谷尙史 SHINYA, NAOFUMI;滨口优 HAMAGUCHI, YU;山形则男 YAMAGATA, NORIO;美浓轮武久 MINOWA, TAKEHISA
分类号
C30B28/08(2006.01);C30B28/10(2006.01)
主分类号
C30B28/08(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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