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<p>본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 제조 방법은 균일하고 결정성을 갖는 투명 도전막을 형성할 수 있도록, 기판을 초음파로 세척하는 기판 전처리 단계와 기판을 진공 챔버 내부로 이송시키는 기판 장입 단계와 진공 챔버 내부의 가스를 방출하는 진공 배기 단계와 기판에 펄스 전원을 인가하여 기판을 플라즈마로 처리하는 플라즈마 전처리 단계, 및 기판의 배면에 설치된 전자석에 전류를 인가하여 기판 상에 투명 도전막을 비평형 마그네트론 스퍼터링 방법으로 형성하는 스퍼터링 단계를 포함한다.</p> |
