| 摘要 |
<p>본 발명은 반도체 기판 제조 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 건조하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 건조 장치는 건조 공정이 수행되는 공간을 제공하는 하우징, 상기 하우징의 내부에 제공되어 기판을 지지하는 기판 지지 부재, 상기 하우징으로 초임계 상태의 공정 유체를 공급하는 공급 라인을 포함하는 유체 공급 부재 및 상기 하우징으로부터 상기 공정 유체를 배기하는 배기 라인을 포함하는 배기 부재를 포함하되, 상기 공급 라인은 상기 공정 유체를 제1 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제1 공급 라인 및 상기 공정 유체를 제2 공급 유량으로 상기 하우징에 공급되도록 제공되는 제2 공급 라인을 포함한다. 상기 공급 라인은 상기 공정 유체의 저장부에 연결된 전방 공급 라인 및 상기 하우징에 연결된 후방 공급 라인을 더 포함하되, 상기 제1 공급 라인과 제2 공급 라인이 서로 병렬로 연결되고, 상기 전방 공급 라인과 상기 후방 공급 라인을 연결시킬 수 있다.</p> |
