发明名称 |
斜角蚀刻器用之可调式上部电浆排除区域环;TUNABLE UPPER PLASMA-EXCLUSION-ZONE RING FOR A BEVEL ETCHER |
摘要 |
一种用于以电浆来清洁半导体基板之斜角边缘的斜角蚀刻器,包含具有下部支撑件的下部电极组件,该下部支撑件具有圆柱形顶部。上部介电质元件系配置于下部电极组件上方,并具有与下部支撑件之顶部相对的圆柱形底部。可调式上部电浆排除区域(PEZ)环系围绕上部介电质元件的底部,其中,可调式上部PEZ环之下表面包含从上部介电质元件之底部向外延伸的向上渐缩部分,其中,可增加或减少介于上部PEZ环之下表面与支撑于下部支撑件上的基板之上表面间的可调间隙之垂直高度,俾能分别径向向内或径向向外地调整待由电浆所清洁的基板之斜角边缘的范围。至少一射频(RF)功率来源适用于在斜角边缘清洁制程期间将制程气体激发成电浆。 |
申请公布号 |
TW201528323 |
申请公布日期 |
2015.07.16 |
申请号 |
TW103134639 |
申请日期 |
2014.10.03 |
申请人 |
兰姆研究公司 LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
陈 杰克 CHEN, JACK;立隆 亚当 LIRON, ADAM;萨克士顿 葛瑞格里 SEXTON, GREGORY |
分类号 |
H01J37/32(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
许峻荣 |
主权项 |
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地址 |
美国 US |