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发明名称
电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法
摘要
本发明系一种电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法,其课题为提供使形成电极于基板之处理的产率提升之电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法。;解决手段为电极形成装置(1)系具备:从上方按压基板(B)之按压板(13),和吸附基板(B)于印刷平台(11)之吸附装置(14),和加以一体形成为了涂布助熔剂于基板(B)之第1光罩部,与于涂布有助熔剂之基板(B),为了充填导电性球之第2光罩部之光罩构件(15),和藉由第1光罩部而涂布助熔剂之刮浆板头(16),和为了使光罩构件移动之空气压缸(18),和藉由第2光罩部,充填导电性球之充填头(17)。
申请公布号
TW201528349
申请公布日期
2015.07.16
申请号
TW103132983
申请日期
2014.09.24
申请人
日立制作所股份有限公司 HITACHI, LTD.
发明人
栗原弘邦 KURIHARA, HIROKUNI;五十岚章雄 IGARASHI, AKIO;水鸟量介 MIZUTORI, RYOSUKE;后和昭典 GOWA, AKINORI;桥本尚明 HASHIMOTO, NAOAKI
分类号
H01L21/28(2006.01);H01L21/67(2006.01)
主分类号
H01L21/28(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本 JP
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