发明名称 电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法
摘要 本发明系一种电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法,其课题为提供使形成电极于基板之处理的产率提升之电极形成装置,电极形成系统及电极形成方法。;解决手段为电极形成装置(1)系具备:从上方按压基板(B)之按压板(13),和吸附基板(B)于印刷平台(11)之吸附装置(14),和加以一体形成为了涂布助熔剂于基板(B)之第1光罩部,与于涂布有助熔剂之基板(B),为了充填导电性球之第2光罩部之光罩构件(15),和藉由第1光罩部而涂布助熔剂之刮浆板头(16),和为了使光罩构件移动之空气压缸(18),和藉由第2光罩部,充填导电性球之充填头(17)。
申请公布号 TW201528349 申请公布日期 2015.07.16
申请号 TW103132983 申请日期 2014.09.24
申请人 日立制作所股份有限公司 HITACHI, LTD. 发明人 栗原弘邦 KURIHARA, HIROKUNI;五十岚章雄 IGARASHI, AKIO;水鸟量介 MIZUTORI, RYOSUKE;后和昭典 GOWA, AKINORI;桥本尚明 HASHIMOTO, NAOAKI
分类号 H01L21/28(2006.01);H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/28(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP