发明名称 コモンレール式還元剤噴射システム
摘要 <p>選択的な触媒還元(SCR)成分および酸化触媒成分を含む排気システムである。当該排気システムは、SCR成分又は酸化触媒成分に隣接する位置で排気流内に排気処理流体を分散させる排気処理流体噴射システムも備え、該排気処理流体噴射装置は、排気処理流体を排気流内に投与する複数のインジェクタに加圧下で排気処理流体を供給するコモンレールを備える。該排気処理流体噴射装置は、未使用の排気処理流体を流体源に戻すための戻りレールも備える。</p>
申请公布号 JP2015520333(A) 申请公布日期 2015.07.16
申请号 JP20150518423 申请日期 2013.06.05
申请人 发明人
分类号 F01N3/08;F01N3/025;F01N3/20;F01N3/24;F01N3/28;F01N3/36 主分类号 F01N3/08
代理机构 代理人
主权项
地址