发明名称 处理液供给装置及处理液供给方法
摘要 在使作为处理液的光阻液(L)从吐出喷嘴(7)吐出时,可一边抑制生产率下降,一边使用一过滤器(52)达成该光阻液(L)之清净化。在光阻液(L)所流通的供给管路(51)上设置过滤器(52)与泵(70)或泵(111、112)。且,使通过了过滤器(52)之光阻液(L)的一部分从吐出喷嘴(7)吐出,并且使残留的光阻液(L)回到过滤器(52)的一次侧,在进行后续的吐出动作时,使该残留的光阻液(L)再次通过过滤器(52)。在像这样的动作程序中,关于回到过滤器(52)之一次侧之光阻液(L)的回流量,系设定成与从吐出喷嘴(7)所吐出之光阻液(L)的供给量相同,或是比该供给量多。
申请公布号 TW201528403 申请公布日期 2015.07.16
申请号 TW103133320 申请日期 2014.09.25
申请人 东京威力科创股份有限公司 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 高栁康治 TAKAYANAGI, KOJI;吉原孝介 YOSHIHARA, KOUSUKE;寺下裕一 TERASHITA, YUICHI;古庄智伸 FURUSHO, TOSHINOBU;佐佐卓志 SASA, TAKASHI
分类号 H01L21/67(2006.01) 主分类号 H01L21/67(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本 JP