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经营范围
发明名称
使用磁性反应复合物的CMP设备;CMP EQUIPMENT USING MAGNET RESPONSIVE COMPOSITES
摘要
本发明所述的实施例一般系关于用于磁性反应化学机械研磨的装置与方法。在一个实施例中,提供一种包括具有一或多个磁场产生器的支撑件之装置,一或多个磁场产生器在支撑件中形成。磁场产生器可以产生至少一个磁场。磁性反应复合物经定位而与磁场产生器磁性连接。当磁性反应复合物接收来自磁场产生器的磁场时,磁性反应复合物改变形状。
申请公布号
TW201528354
申请公布日期
2015.07.16
申请号
TW103129213
申请日期
2014.08.25
申请人
应用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
马哈珍尤戴 MAHAJAN, UDAY;巴札拉吉菲 BAJAJ, RAJEEV;瑞德格佛瑞德康莱德 REDEKER, FRED CONRAD;穆罕默德阿布道尔瓦哈 MOHAMMED, ABDUL WAHAB
分类号
H01L21/304(2006.01);H01L21/3105(2006.01);H01L21/321(2006.01);B24B49/16(2006.01);B24B53/00(2006.01);B24B37/34(2012.01);B24B37/04(2012.01)
主分类号
H01L21/304(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财李世章
主权项
地址
美国 US
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