| 发明名称 |
乾膜光阻用光敏树脂组成物;PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR DRY FILM PHOTORESIST |
| 摘要 |
本发明涉及一种乾膜光阻用光敏树脂组成物，更详细地，涉及一种提高对显影液的隆起可靠性的同时，适用于使用少量的曝光能量也能够进行曝光的雷射直接曝光机，进而在整体生产速度被曝光制程的速度所左右的企业、PCB、导线架、PDP及其它显示单元等中产生图案时，能够使生产率极大化的乾膜光阻用光敏树脂组成物。 |
| 申请公布号 |
TW201527889 |
申请公布日期 |
2015.07.16 |
| 申请号 |
TW103145809 |
申请日期 |
2014.12.26 |
| 申请人 |
可隆股份有限公司 KOLON INDUSTRIES, INC. |
发明人 |
石想勋 SUK, SANG HOON;崔钟昱 CHOI, JONG OOK |
| 分类号 |
G03F7/038(2006.01);G03F7/031(2006.01);G03F7/033(2006.01);G03F7/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);B23K26/00(2014.01) |
主分类号 |
G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
洪尧顺 |
| 主权项 |
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| 地址 |
南韩 KR |
