| 摘要 |
公知の基板照射装置は、照射すべき基板用の円形の被照射面を備えた収容部と、被照射面に対して平行に延在する照射平面内に配置される少なくとも１つの放射チューブを備えた第１光学式放射器とを有する。放射チューブの照射ラインには、１つの部分と２つの端部部分とが含まれており、部分の長さは、照射ラインの長さの少なくとも５０％をなしている。上記の収容部および光学式放射器には互いに相対的に運動可能である。ここから出発して、基板を均一ないしは回転対称に加熱できるようにしさらにわずかな構成上および制御技術的なコストしか要しない、基板を熱処理する装置を提供するため、本発明によって提案されるのは、放射チューブの照射ラインが２&pgr;よりも小さい弧度にわたって延在しているという条件の下で、上記の放射チューブが部分において連続的に減少する曲率を有することである。 |
