| 发明名称 |
藉由非接触式光学方法用以定位光刻遮罩的装置和方法;DEVICE AND METHOD FOR POSITIONING A PHOTOLITHOGRAPHY MASK BY A CONTACTLESS OPTICAL METHOD |
| 摘要 |
本发明系有关于一种装置，用以相对于晶圆表面来定位遮罩(10)以用于该晶圆(11)的曝光，其包含：(i)第一定位元件(20)，适用以相关于该遮罩(10)和该晶圆(11)的彼此来抓住并且移动该遮罩(10)和该晶圆(11)；(ii)成像元件(20，22，23，30)，适用以根据至少一视野(14)来产生该遮罩(10)以及该晶圆(11)表面的至少一成像，以使得在该视野(14)中同时成像该遮罩(10)和该晶圆(11)的定位标记(12，13)；以及(iii)至少一光学距离感测器(26)，适用以利用至少部份通过该成像元件的测量光束(15，28)，在该(等)视野中产生在该晶圆(11)表面和该遮罩(10)之间的一距离量测值。;本发明亦有关于实施在此装置的一种方法和一工具。;The invention also relates to a method implemented in this device and an appliance. |
| 申请公布号 |
TW201527908 |
申请公布日期 |
2015.07.16 |
| 申请号 |
TW103141887 |
申请日期 |
2014.12.03 |
| 申请人 |
法格尔微科技公司 FOGALE NANOTECH |
发明人 |
法斯奎特 吉勒斯 FRESQUET, GILLES;瑞贝特 吉恩那尔 RIBETTE, GUENAEL |
| 分类号 |
G03F9/00(2006.01);G03F1/42(2012.01) |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
法国 FR |
