检查方法、微影装置、光罩及基板;INSPECTION METHOD, LITHOGRAPHIC APPARATUS, MASK AND SUBSTRATE

摘要

本发明揭示一种用于获得与一微影程序相关之焦点资讯之方法及装置。该方法包括：照明一目标，该目标具有交替之第一结构及第二结构，其中该等第二结构之形式系焦点相依的，而该等第一结构之形式不具有与该等第二结构之焦点相依性相同的焦点相依性；及侦测由该目标重导向之辐射以针对彼目标获得表示该目标之一整体不对称性的一不对称性量测，其中该不对称性量测指示形成该目标之光束之焦点。本发明揭示一种用于形成此目标之关联光罩，及一种具有此目标之基板。