发明名称 形成铁电记忆体单元之方法及相关之半导体装置结构;METHODS OF FORMING A FERROELECTRIC MEMORY CELL AND RELATED SEMICONDUCTOR DEVICES STRUCTURES
摘要 本发明揭示一种形成一铁电记忆体单元之方法。该方法包括形成展现一所要主要结晶定向之一电极材料。一铪基材料形成于该电极材料上且该铪基材料经结晶以引发具有一所要结晶定向之一铁电材料之形成。本发明亦描述额外方法,如包含铁电材料之半导体装置结构。
申请公布号 TW201528570 申请公布日期 2015.07.16
申请号 TW103131228 申请日期 2014.09.10
申请人 美光科技公司 MICRON TECHNOLOGY, INC. 发明人 陶 谦 TAO, QIAN;洛克莱 马修N ROCKLEIN, MATTHEW N.;曲克 贝丝R COOK, BETH R.;拉玛斯瓦米 D V 尼尔摩 RAMASWAMY, D. V. NIRMAL
分类号 H01L45/00(2006.01);H01L21/8247(2006.01) 主分类号 H01L45/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国 US