发明名称 |
用于在基体上制造金属-硼碳化物层的方法 |
摘要 |
本发明涉及用于涂敷带有层的基体的PVD方法,所述层至少含有微晶金属硼碳化物相。在PVD方法的过程中,所述源输出是脉冲的,使得在600℃以下的基体温度在由此产生的层的x-射线光谱中,至少一个峰可以确定,其半峰宽允许得出结论:存在所述金属-硼碳化物的微晶相。 |
申请公布号 |
CN104781444A |
申请公布日期 |
2015.07.15 |
申请号 |
CN201380051231.9 |
申请日期 |
2013.09.09 |
申请人 |
欧瑞康表面解决方案股份公司,特吕巴赫 |
发明人 |
M.阿恩特;H.鲁迪吉尔;H.博瓦蒂;J.施内德 |
分类号 |
C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/06(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
周铁;万雪松 |
主权项 |
用于涂敷带有涂层的基体的PVD方法,所述涂层至少含有微晶金属硼碳化物相,其特征在于:在PVD方法的范围中,所述源功率是脉冲的,使得在600℃以下的基体温度在由此沉积的层的x‑射线光谱中,至少一个峰可以确定,其半峰宽允许得出结论:存在所述金属‑硼碳化物的微晶相。 |
地址 |
瑞士特吕巴赫 |