发明名称 透明导电性薄膜
摘要 一种透明导电性薄膜,其包括设置在薄膜基底的一个表面上的聚合物层,和设置在聚合物层上的透明导电层,薄膜基底由聚酯形成,并被双向拉伸。薄膜基底的折射率η1与聚合物层的折射率η2的差|η1-η2|设置为至多0.02。聚合物层含有折射率ηP为至少1.80的金属氧化物颗粒,以及固定该颗粒、且折射率ηB为至少1.60的粘结剂。金属氧化物颗粒相对于粘结剂的质量比设置为大于0%且等于或小于100%。
申请公布号 CN102029756B 申请公布日期 2015.07.15
申请号 CN201010510629.2 申请日期 2010.08.19
申请人 富士胶片株式会社 发明人 才木隆史;今村直也
分类号 B32B27/08(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I 主分类号 B32B27/08(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 过晓东;谭邦会
主权项 一种透明导电性薄膜,其包括:薄膜基底,所述薄膜基底由聚酯形成,并被双向拉伸;聚合物层,所述聚合物层在所述薄膜基底的一个表面上形成,并含有折射率ηP为至少1.80的金属氧化物颗粒,及固定所述颗粒、且折射率ηB为至少1.60的粘结剂,所述颗粒相对于所述粘结剂的质量比为至多100%,所述薄膜基底的折射率η1与所述聚合物层的折射率η2的差为至多0.02;和在所述聚合物层上形成的透明导电层,其中作为所述粘结剂的聚合物的玻璃化转变温度Tg为至少90℃。
地址 日本东京