用于制作薄膜晶体管的方法

摘要

本发明公开了一种用于制作薄膜晶体管的方法，包括：在基底上形成遮光层；在遮光层上形成中间层，中间层包括对应于遮光层的半导体层；在中间层上涂布光阻材料，采用与基底呈第一夹角的光束透过基底来对光阻材料进行照射，形成光阻层，其中，光阻层上具有光阻材料的区域上的光阻材料的厚度从两侧到中心部分逐渐变大；进行离子掺杂处理，以在半导体层中形成对应于光阻层中厚度逐渐变化的光阻材料的区域的离子轻掺杂区，并在半导体层中形成对应于光阻层中无光阻材料区域的离子重掺杂区。本发明可以减小多晶硅薄膜晶体管制作过程中所需的光罩数量，降低生产成本。

主权项

一种用于制作薄膜晶体管的方法，包括：在基底上形成遮光层；在所述遮光层上形成中间层，所述中间层包括对应于所述遮光层的半导体层；在所述中间层上涂布光阻材料，采用与所述基底呈第一夹角的光束透过所述基底来对光阻材料进行照射，形成光阻层，其中，所述光阻层上具有光阻材料的区域上的光阻材料的厚度从两侧到中心部分逐渐变大；进行离子掺杂处理，以在所述半导体层中形成对应于所述光阻层中厚度逐渐变化的光阻材料的区域的离子轻掺杂区，并在所述半导体层中形成对应于所述光阻层中无光阻材料区域的离子重掺杂区。